光刻方法与二维DNA折纸origami自组装相融合,已经产生了光子晶体腔阵列的发展,以及传感纳米阵列的探索,其中在亚微米尺度上,分子器件形成图案。
近日,德国 慕尼黑大学(Ludwig-Maximilians-Universität München)Irina V. Martynenko,Tim Liedl 等,在Nature Nanotechnology上发文,将这一概念扩展到第三维,具体地,是将三维DNA 折纸安装到纳米图案基底上,然后进行硅化silicification,以提供具有机械和化学稳定性的混合DNA-二氧化硅结构,并实现亚10nm范围的特征尺寸。这种多功能和可扩展制备方法,依赖于在环境温度下的自组装,提供了三维定位与DNA折纸纳米结构兼容的任何无机和有机成分的潜力,同时还利用金纳米粒子进行了演示。这种纳米织构方法,有望应用于低成本生产复杂的三维图案化表面,以及在分子水平上设计并达到宏观尺寸的集成器件。Site-directed placement of three-dimensional DNA origami. 图1:3D混合DNA-二氧化硅纳米结构基底的组装。
图2:将DNA折纸纳米管在表面上退火到平面连接器折纸,组装成3D混合纳米结构基底。
图3:模式多样性。
图4:基于直接沉积,组装3D混合纳米结构基底。
图5:基于纳米球光刻,制备了混合二氧化硅-金纳米粒子AuNPs-DNA纳米结构的组装。
Martynenko, I.V., Erber, E., Ruider, V. et al. Site-directed placement of three-dimensional DNA origami. Nat. Nanotechnol. (2023).https://doi.org/10.1038/s41565-023-01487-zhttps://www.nature.com/articles/s41565-023-01487-z声明:仅代表译者个人观点,小编水平有限,如有不当之处,请在下方留言指正!